11月8日，“先进IC制造中的计算光刻技术”学术讲座在集成电路学院办公楼B312会议室举办。来自集成电路学院、化学系、精密仪器系、工物系的30余名师生参加了本次讲座。本次讲座由清华大学集成电路学院刘泽文教授主持。
讲座现场
本次讲座邀请中国科学院微电子研究所研究员，中国科学院大学集成电路学院长聘教授，博士生导师，国际光学工程学会会士（SPIE Fellow）韦亚一为主讲嘉宾。韦亚一教授以“先进IC制造工程中的光刻技术”为主题，详细介绍了计算光刻发展概况、基于规则/模型的光学临近效应修正、OPC技术发展趋势、SMO原理、反演光刻技术（ILT）。接着，又对光刻技术的复杂性和挑战性，以及国际与国内光刻技术的对比与发展等进行深度剖析。
讲座进行了近两小时，现场反响热烈，在随后的问答环节，与会师生就SMO、OPC、ILT的具体应用、国内计算光刻未来发展趋势等问题和韦亚一教授进行了深入的讨论和交流。
清华主页
